AusschreibungsRadar — Verfahrensauszug
Chemisch-mechanische Poliermaschine
Stammdaten
- Auftraggeber
- Friedrich-Schiller-Universität Jena, Jena
- Veröffentlicht
- 30.10.2026
- Notice-Typ
- Vergabeergebnis
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- CPV-Code
- 38000000 — Labor-, optische und Präzisionsgeräte
- Branche
- Sonstiges
- Zuschlagswert
- 225.000 €
- Rechtsgrundlage
- EU-Oberschwelle
Beschreibung
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.
Vergabe-Status
- Auftragnehmer
- Bruker France S.A.S.
- Vertragsabschluss
- 29.10.2026
- Zuschlagsentscheidung
- 29.10.2026
Verfahrensverlauf — alle 2 Veröffentlichungen
- Ausschreibung · Frist: 20.10.2026
- Vergabeergebnis
Zuständige Vergabekammer (laut Bekanntmachung)
Thüringer Landesverwaltungsamt - Vergabekammer, Weimar
Angabe aus der TED-Bekanntmachung. Im Streitfall ist die tatsächlich zuständige Vergabekammer nach §§ 155 ff. GWB maßgeblich, nicht zwingend die hier genannte.
Bieter (1)
- Bruker France S.A.S. (Otterstadt)