Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR) · Köln · Nordrhein-Westfalen
Beschreibung
Im Rahmen dieser Ausschreibung werden Anlagen für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum beschafft. Teil der Prozesskette sind die Abscheidung und Strukturierung metallischer, dielektrischer und Halbleiter-Dünnschichten auf Substraten mit einem maximalen Durchmesser von 150 mm. Die Ausschreibung beinhaltet eine Kombi-Gerät mit Magnetron-Sputterquellen und Ionenstrahlätzanlage (ion beam etching IBE). Die Ausschreibung umfasst lediglich die spezifizierten Anlagen, die dafür benötigten Medien und Peripherien werden vom DLR separat bereitgestellt. Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu entnehmen.
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Gesundheitswesen & Medizintechnik
Beschaffung von Sputteranlagen für die Mikrostrukturierung im Reinraum, inklusive Magnetron-Sputterquellen und Ionenstrahlätztechnologie für Substrate bis 150 mm Durchmesser.
Hinweis: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de.
Preiseinschätzung
Basierend auf 112 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
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Verfahrensverlauf
Vollständige Historie dieses Vergabeverfahrens — alle Phasen und Veröffentlichungen.
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5 Veröffentlichungen
- Frist 19.05.2025 Original-Veröffentlichung
- Frist 12.05.2025 Original-Veröffentlichung
- Frist 12.05.2025 Original-Veröffentlichung aktuell
- Frist 21.04.2025 Original-Veröffentlichung
- Frist 31.03.2025 Original-Veröffentlichung
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Vergabeergebnis
Auftrag wurde zugeschlagen
Zuschlagswert 0 €
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