AusschreibungsRadar

Stammdaten

Auftraggeber: Friedrich-Schiller-Universität Jena, Jena
Veröffentlicht: 13.04.2026
Frist (Submission): 19.05.2026
Notice-Typ: Ausschreibung
Verfahrensart: Offenes Verfahren
CPV-Code: 38000000 — Labor-, optische und Präzisionsgeräte
Rechtsgrundlage: EU-Oberschwelle

Beschreibung

Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.

Verfahrens-Bedingungen

Bindefrist: 1 Monat

Vergabe-Status

Vergabe-Status: Verfahren laufend

Verfahrensverlauf — alle 2 Veröffentlichungen

Ausschreibung · Frist: 19.05.2026
Vergabeergebnis

Zuständige Vergabekammer (laut Bekanntmachung)

Thüringer Landesverwaltungsamt - Vergabekammer, Weimar

Angabe aus der TED-Bekanntmachung. Im Streitfall ist die tatsächlich zuständige Vergabekammer nach §§ 155 ff. GWB maßgeblich, nicht zwingend die hier genannte.

Hinweis zur Verwendung: Dieser Auszug fasst die zum Erstellungszeitpunkt verfügbaren Daten zur Vergabe zusammen. Quelle der Daten ist oeffentlichevergabe.de (Beschaffungsamt des BMI), vermittelt durch AusschreibungsRadar. Der Auszug ist eine unverbindliche Aufbereitung öffentlich zugänglicher Bekanntmachungen und keine Urkunde im Sinne der ZPO. Für rechtsverbindliche Zwecke ist immer die Original-Bekanntmachung unter dem oben angegebenen Permalink heranzuziehen. Daten können sich nach dem Erstellungszeitpunkt geändert haben (Folgeversionen, Stornierungen, Korrekturen).