AusschreibungsRadar

Stammdaten

Auftraggeber: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften
Veröffentlicht: 27.10.2026
Notice-Typ: Vergabeergebnis
Verfahrensart: Offenes Verfahren
CPV-Code: 38000000 — Labor-, optische und Präzisionsgeräte
Branche: Bildung & Forschung
Rechtsgrundlage: EU-Oberschwelle

Beschreibung

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Verfahrensverlauf — alle 2 Veröffentlichungen

Ausschreibung · Frist: 10.01.2024
Vergabeergebnis

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