Integrated Measurement System CMP04

Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS

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Beschreibung

For an Ebara F-EX200M2 chemical-mechanical-polishing (CMP) system an integrated measurement system is needed. The CMP system is prepared with so called "NOVA ready - kit" which means all connections and the tool frame for an NOVA 2040dry system are available on customer site. Each measurent system needs to be able to fit to this frame and communication connections. Integrated Measurement System CMP04

Branche: Gesundheitswesen & Medizintechnik

Gesucht wird ein integriertes Messsystem (CMP04) für ein chemisch-mechanisches Poliersystem (Ebara F-EX200M2).

Das System muss an einen vorhandenen Rahmen und Kommunikationsanschlüsse (NOVA ready - kit) passen. Der Auftraggeber ist das Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS in Dresden.

Weitere Eignungskriterien: Details in der vollständigen Analyse.

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