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teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Angebote bis 16.09.2026, 12:00 Uhr (noch 1 Tage)
Beschreibung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Gesundheitswesen & Medizintechnik
Das Wichtigste auf einen Blick
- Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie.
- Das System muss 6", 7" und 9" Masken reinigen können, mit austauschbarem Chuck.
- Installation in einem Reinraum am Standort Chemnitz.
- Offenes Vergabeverfahren (cn-standard).
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken (6", 7", 9") für die Halbleiterindustrie.
Hinweis nach EU AI Act Art. 50: automatisiert erstellt (Google Gemini) — ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen. Mehr ▾
Diese Kurzanalyse ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung und keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Original-Bekanntmachung (oeffentlichevergabe.de). Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
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