Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften · Garching · Bayern · Anstalt des öffentlichen Rechts (Land)
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Kostenlos beobachten →Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
Branche: Bildung & Forschung
Beschaffung einer hochauflösenden Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Forschung und Prototypenentwicklung.
Diese Kurzanalyse ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung und keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Original-Bekanntmachung (oeffentlichevergabe.de). Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
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Wichtige Bedingungen für Angebot und Ausführung — wie vom Auftraggeber bekannt gemacht.
Bestimmte fehlende Unterlagen dürfen nachgefordert werden — nicht alle.
Der Auftrag ist an zusätzliche Ausführungsbedingungen geknüpft (§ 128 GWB) — Details in den Vergabeunterlagen.
Quelle: Bekanntmachung (eForms). Maßgeblich sind die vollständigen Vergabeunterlagen.
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