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RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04) - PR1161740-3340-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 · München · Bayern
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Beschreibung
RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04)
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: Bildung & Forschung
Beschaffung eines RIE Cluster DRIE & Cryo Etch Geräts (Reactive Ion Etching Anlage mit Deep Reactive Ion Etching und Kryoätztechnologie) für die Fraunhofer-Gesellschaft am Standort Chemnitz.
Hinweis nach EU AI Act Art. 50: Diese Kurzanalyse wurde automatisiert von einem KI-Modell (Google Gemini) erstellt und ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung. Sie ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen und ist keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de. Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
Weitere Pflichtangaben aus der Bekanntmachung
Mindestens 3 Bewerber
Preiseinschätzung
Basierend auf 33 vergleichbaren Vergabeergebnissen:
Statistische Auswertung öffentlicher Zuschlagswerte. Keine Preisempfehlung.
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