FBH-02 Prior Information Notice – Wet Chemical Processing Tool (Single Wafer Etching)
Ferdinand-Braun-Institut gGmbH Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik
Beschreibung
The Ferdinand-Braun-Institut (FBH) plans to procure a wet chemical processing tool for single wafer etching within the framework of the EU-funded APECS programme. The system is intended for the processing of compound semiconductor materials such as InP, GaAs, AlGaAs, and GaN. The tool will enable highly precise and reproducible etching processes on a per-wafer basis, including endpoint detection functionality. Compared to batch processing, the single wafer approach ensures improved process control and reproducibility, which is essential for low-volume, high-precision semiconductor manufacturing. The equipment will be installed in an existing cleanroom environment and must be compatible with ISO class 5 requirements. The procurement procedure is planned for 2026
KI-Eignungsanalyse
KI-generiertBranche: IT & Digitalisierung
Das Wichtigste auf einen Blick
- Beschaffung eines Nasschemie-Prozesswerkzeugs für das Ätzen von Einzelwafern (Single Wafer Etching).
- Geeignet für die Verarbeitung von Compound-Halbleitermaterialien wie InP, GaAs, AlGaAs und GaN.
- Erfordert hochpräzise und reproduzierbare Ätzprozesse mit Endpunkterkennung.
- Installation in einer Reinraumumgebung (ISO Klasse 5) erforderlich.
- Geschätzter Wert der Beschaffung beträgt 1.710.000 EUR, geplante Ausschreibung 2026.
Das Ferdinand-Braun-Institut plant die Beschaffung eines Nasschemie-Prozesswerkzeugs für das Ätzen von Einzelwafern, speziell für Halbleitermaterialien wie InP, GaAs, AlGaAs und GaN.
Hinweis nach EU AI Act Art. 50: automatisiert erstellt (Google Gemini) — ersetzt keine Prüfung der Original-Vergabeunterlagen. Mehr ▾
Diese Kurzanalyse ist ausschließlich ein Hilfsmittel zur schnellen Orientierung und keine Eignungs- oder Rechtsberatung. Die verbindlichen Angaben entnehmen Sie bitte der Original-Bekanntmachung (TED EU). Details zu unserer KI-Nutzung: KI-Transparenz.
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