Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.
Lot-Detail aus Schwester-Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de (gleiche procedure_id).
KI-generierte Zusammenfassung der Bekanntmachung (KI-Transparenz) — maßgeblich ist die Original-Bekanntmachung.
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Der Auftraggeber hat dieses Verfahren mehrfach aktualisiert — chronologisch, neueste zuerst.
Ergänzende Informationen
Verlängerung der Angebotsfrist bis 25.08.2026, 13:00 Uhr
Maßgeblich ist stets die Original-Bekanntmachung beim Auftraggeber. Vollständiger Verfahrensverlauf →
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Laut Bekanntmachung läuft dieser Auftrag bis zum genannten Datum. Ob der Auftraggeber danach erneut vergibt, entscheidet allein er; die Angabe ist ein Anhaltspunkt für Ihre Vorbereitung, keine angekündigte Ausschreibung.
Wonach der Auftraggeber das wirtschaftlichste Angebot ermittelt.
Quelle: Bekanntmachung (eForms) — Gewichtung wie vom Auftraggeber veröffentlicht.
Wichtige Bedingungen für Angebot und Ausführung — wie vom Auftraggeber bekannt gemacht.
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Quelle: Bekanntmachung (eForms). Maßgeblich sind die vollständigen Vergabeunterlagen.
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